Il Trimetossisilano è un composto di silano caratterizzato dalla presenza di tre gruppi metossilici legati a un atomo di silicio. Questo ingrediente versatile è principalmente utilizzato come modificatore di superficie, agente accoppiatore e agente di reticolazione in varie applicazioni, comprese le cosmetiche, gli adesivi e i rivestimenti. Nelle formulazioni cosmetiche, il trimetossisilano aiuta a migliorare l'adesione e la stabilità dei prodotti, migliorando le loro prestazioni complessive. È particolarmente apprezzato per la sua capacità di conferire idrofobicità e migliorare la texture delle formulazioni.
Composizione Chimica e Struttura
Il trimetossisilano è composto da:
- Atomo di Silicio: Centrale nella molecola, fornendo le caratteristiche del silano.
- Gruppi Metossilici: Tre gruppi metossi (-OCH₃) legati all'atomo di silicio, che contribuiscono alla sua reattività e solubilità in vari solventi.
La struttura chimica consente al trimetossisilano di formare legami forti con superfici sia organiche che inorganiche, rendendolo un efficace agente accoppiatore.
Proprietà Fisiche
Aspetto: Tipicamente un liquido incolore o giallo pallido.
Solubilità: Solubile in solventi organici; reagisce con l'acqua per formare silanolo.
pH: Generalmente neutro, compatibile con una gamma di formulazioni cosmetiche.
Odore: Lieve, spesso considerato tenue o trascurabile.
Stabilità: Stabile in condizioni normali di conservazione, ma sensibile all'umidità, che può portare a idrolisi.
Processo di Produzione
Sintesi: Il trimetossisilano viene sintetizzato attraverso la reazione del tetracloruro di silicio con metanolo o tramite altri metodi che coinvolgono composti di silicio e metanolo.
Purificazione: Il prodotto viene purificato per rimuovere eventuali materiali non reagiti e sottoprodotti, garantendo un ingrediente di alta qualità.
Formulazione: Il trimetossisilano purificato viene quindi incorporato in vari prodotti cosmetici per migliorarne le proprietà di adesione, stabilità e prestazioni.
Applicazioni
Medico: Utilizzato occasionalmente in formulazioni topiche per la sua capacità di migliorare la stabilità del prodotto e l'adesione alla pelle.
Cosmetici: Comunemente presente in primer, fondotinta e altri prodotti di trucco per le sue proprietà filmogene e idrofobiche. Migliora la texture e la longevità delle applicazioni cosmetiche.
Usi Industriali: Impiegato in adesivi, sigillanti e rivestimenti per le sue capacità di accoppiamento e reticolazione, migliorando la durata e le prestazioni.
Considerazioni Ambientali e di Sicurezza
Il trimetossisilano è generalmente considerato sicuro per l'uso nei cosmetici quando applicato secondo le linee guida raccomandate. È ben tollerato dalla maggior parte dei tipi di pelle, ma è essenziale una manipolazione e conservazione appropriate a causa della sua sensibilità all'umidità.
Pratiche di approvvigionamento e formulazione responsabili sono necessarie per garantire che l'ingrediente sia privo di contaminanti nocivi e prodotto in modo sostenibile.
Molecular Formula C3H9O3Si
Molecular Weight 121.19 g/mol
CAS 2487-90-3
UNII V1J39XPF91
EC Number 219-637-2
DTXSID501338920
Synonyms:
trimethoxysilyl
Trimethoxy silane
Bibliografia__________________________________________________________________________
Krasnoslobodtsev, A. V., & Smirnov, S. N. (2002). Effect of water on silanization of silica by trimethoxysilanes. Langmuir, 18(8), 3181-3184.
Abstract. Water has a big influence on the mechanism of monolayer formation and therefore on the structure of monolayer that can be obtained on a silica surface. Trimethoxysilane in the absence of water can form submonolayers with only one siloxane bond binding functional tails with the surface. We show here that hydrolysis of the remaining methoxy groups on the initial immobilized silane layer by water and followed by another silanization yields enhanced surface density of silanes with improved lateral polymerization and without complications of vertical polymerization. The improved technique allows surface concentration of coumarin dye molecules of 2.7 × 1014 cm-2, almost 1.3 times higher than what is possible without water treatment.
Finocchio, E., Macis, E., Raiteri, R., & Busca, G. (2007). Adsorption of trimethoxysilane and of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane on silica and on silicon wafers from vapor phase: an IR study. Langmuir, 23(5), 2505-2509.
Abstract. The interaction of trimethoxysilane (TMS) and of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (MPTMS) with silica and silicon wafers has been studied by the mean of transmission FTIR spectroscopy. TMS vapor adsorption on silica's silanols results in the formation of Si−O−Si bonds at room temperature, mainly through the elimination of one methanol molecule per TMS molecule. Similarly, MPTMS vapor reacts with the surface through “hydroxolysis” of one of Si−O−CH3 bonds, and most of the molecules have their SH group free. The same species is formed over the silicon wafer surface. On the other side, deposition of liquid MPTMS over silicon surface leads to the detection of spectral features characterizing a condensed layer.
Innocenzi, P., Brusatin, G., Guglielmi, M., & Bertani, R. (1999). New synthetic route to (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane-based hybrid organic− inorganic materials. Chemistry of materials, 11(7), 1672-1679.
Abstract. Hybrid organic−inorganic materials have been obtained by cohydrolysis of (3-glycidoxypropyl)trimethoxysilane (GPTMS) and tetraethyl orthosilicate (TEOS) in acidic conditions. Boron trifluoride diethyl etherate (BF3OEt2) has been used to catalyze the epoxide polymerization. The effect of BF3OEt2 has been studied by multinuclear magnetic resonance (NMR) in the precursor sol and by Fourier transform infrared spectroscopy in the final material. The addition of BF3OEt2 to a prereacted sol of GPTMS and TEOS has allowed the epoxide ring opening at room temperature, without formation of diol units or boric acid precipitation in the final material. The prereaction time of GPTMS with TEOS has been found to be an important parameter. The catalytic effect of BF3OEt2 with respect to other commonly used catalysts in sol−gel processing of GPTMS-based hybrid organic−inorganic materials, such as zirconium butoxide and 1-methylimidazole, has been studied.